Podrobnosti:

Princip zpracování věže pro absorpci výfukových plynů

Tato řada absorpčních věží s organickými výfukovými plyny kromě stejné funkce jako absorpční věž řady HXW má hlavní charakteristiku využití prostoru pro umístění zařízení, která zabírá velmi malou plochu, vhodná pro použití na úzkých místech, vertikální typ je vhodný pro vysoké a střední množství vzduchu, válcový typ je vhodný pro nízkou a střední množství vzduchu a více vrstev je vhodný pro velké množství vzduchu s nízkou koncentrací.

Princip práce:

Absorpční věž má tři typy vertikálního plnění, válcového obklopení a vícevrstvého plnění, což je pevné postelní vertikální adsorpční zařízení. Toto adsorpční zařízení je fyzická adsorpce, adsorpční proces je reverzibilní, je také snadné regenerovat adsorpci, plyn přes potrubí do absorpční věže, dvě různé fáze rozhraní látky vytvoří proces difuze na rozhraní, difuze končí, plyn je dokončen adsorpční proces, po adsorpci je plyn vysáván ventilátorem.

Funkční vlastnosti

1, má vysokou účinnost čištění, může současně očistit mnoho znečišťujících látek;

Zařízení má požární odolnost s automatickou ochranou před přetížením, únikem a vypnutím elektřiny při otevření dveří.

Modulární design výrobku, snadná instalace, snadná údržba,

4, malý objem zařízení, kompaktní konstrukce, zralý a bezpečný proces

Malé investice do zařízení, nízké provozní náklady a vysoká účinnost čištění, žádné charakteristiky sekundárního znečištění

6, krásný vzhled, malý odpor proti větru, nízký hluk, silná odolnost vůči korozi, dlouhá životnost.

Použitelné místo

Elektronický průmysl, výroba polovodičů, výroba PCB, výroba LCD, ocelový průmysl a kovový průmysl, galvanizace a povrchová úprava kovů, kyselinový průmysl, barviva / farmaceutický / chemický průmysl, deodorace / neutralizace chloru, odstranění spalovacích výfukových plynů SOx / NOx, jiné vodorozpustné nátěrové dílny na znečištění ovzduší, inkoustový tisk, nátěrové dílny, chemický průmysl, strojírenské zpracování, farmacie, kaučuk, potraviny, tisk, papírenství, pivovaru atd.